單片式晶圓清洗設(shè)備
在半導(dǎo)體wafer的制造工藝中，對(duì)可能造成缺陷的particle，采用藥液或是DIW進(jìn)行清洗的設(shè)備。
特長(zhǎng)
- 高性能
單片清洗方式，實(shí)現(xiàn)高潔凈，高均一性，沒(méi)有交叉污染 - 低COO
機(jī)能水的使用，降低藥液的Cost
采用少量藥液清洗系統(tǒng)。
占地面積小 - 環(huán)境保護(hù)
脫RCA清洗，少藥液系統(tǒng)
常溫清洗，省能量
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