單片式光清洗設(shè)備
在半導(dǎo)體使用的Photomask制造工藝中，對Photomask表面附著的Particle采用藥液或DIW進(jìn)行清洗的設(shè)備。
特長
- 高性能
采用高效的高溫藥液清洗，
自主研發(fā)的超聲波清洗系統(tǒng)達(dá)到高效的清洗能力
Metal Free的結(jié)構(gòu)，保證優(yōu)秀的耐藥性 - 低COO
單片式Spin清洗，減低DIW和藥液的使用量
占地面積小 - 擴展性
可追加SPIN Unit，UV Unit，IPA Dry Unit。
可對應(yīng)各類通訊系統(tǒng)
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