光盤用濺鍍設(shè)備
開發(fā)著與Blu-ray Disc，存檔盤相對應(yīng)的新概念的濺射裝置。
特長
- 薄膜厚度的高均一性:±2.0%(絕對值)
（面向半透明層的濺鍍源K-類型） - 發(fā)射回數(shù)∶100萬次以上
- 以1臺Si，Ag，Agx，Au，Al膜的成膜可能
只是換靶材可以對應(yīng)5個膜形成 - 高操作性，高保養(yǎng)性
- 不改造可可以對CD(厚1.2mm)，DVD(厚0.6mm)，BD，存檔盤進行濺射
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