フォトマスク
エッチング裝置
次世代先端プロセス開発のカギとなる微細(xì)なパターンを形成する、フォトマスク製造用エッチング裝置です。
特長(zhǎng)
- NIL?EUVマスク?光マスク、それぞれに対応したプロセス技術(shù)を提供
- 最大４基のプロセスチャンバーを搭載し、フレキシブルな製造プロセスに対応。
- 最先端光マスクのCDU性能に対し、獨(dú)自のプラズマ源によって性能を達(dá)成。
- 10nmの要求微細(xì)欠陥を減少させるテクニカルオペレーションを提案。
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